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在氧化染色整個流程中，因為氧化工藝原因造成染色不良是比較普遍的。氧化膜（mó）的膜厚和孔隙均勻一致是染色時獲得均勻一致顏色的前提和基礎，為獲得均勻一致的氧化膜，保證足夠的循環量，冷卻量，保證良好的導電性是舉足輕重的，此外就是氧化工藝的穩定性。氧（yǎng）化溫度（dù），控製在20℃左右，氧化槽液的溫度對染色（sè）的影響非常顯著（zhe），過低的溫度致使氧化膜的膜孔致（zhì）密，染（rǎn）色速（sù）度顯著減（jiǎn）緩；溫度過高，氧化膜蔬鬆（sōng），容（róng）易粉化，不利於染色的控製，氧化槽的溫差變化應在2℃以內為宜。硫酸濃度，控製在180—200g／l。稍（shāo）高的硫酸濃度（dù）可促（cù）進氧化膜的（de）溶解反應加快，利於孔隙的擴張，更易（yì）於染色；鋁離子濃度，控製（zhì）在5—15 g／l。鋁離子小於5g／l，生成的（de）氧化膜吸附（fù）能力降低，影響上色速度，鋁離子大於15g／l時，氧化膜的均勻（yún）性受到影（yǐng）響，容易（yì）出現不規（guī）則的膜（mó）層。
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